NFF(GZ)微纳系统制造中央实验室 Nanosystem Fabrication Facility
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NFF 电子束光刻(EBL)设备理论规则考试(第二批)

报名条件:

  ①近三个月内技能评分需达到90分及以上

  ②需熟练掌握至少两类NFF光刻设备操作技能,比如:接触式曝光机、激光直写曝光设备;或提供其他平台使用过两类以上光刻设备,具备1年以上操作经验的证明;以上两项均不满足,可以邮件向管理员申请,报名综合培训(同步培训EBL与两类NFF光刻设备)


考试内容:

  ①NFF EBL 用户手册(10%)

  ②光刻类理论知识(30%)

  ④电子束光刻理论知识(30%)

  ③光刻类实践知识(30%)


合格标准:满分 100 分,≥90 分为合格;不合格者需重新完成自学后报名下一批次考核


考核方式:线下笔试


考核时间:2026-02-06    10:00-11:30


考试地点:NFF办公区


报名与签到要求:

    ①考试报名:请于考试前至少1天发送邮件联系 EBL 设备管理员报名

                     李艺杰:yijieli@hkust-gz.edu.cn ;吴朝阳:zhaoyangwu@hkust-gz.edu.cn

    ②考试当天要求:须自备电脑,提前 10 分钟现场签到,无提前说明的爽约者,将取消本次考试资格

文件名 大小